纯水在光学领域中的重要作用日益突出，纯水水质已成为影响光学器件产品质量、生产成品率及生产成本的重要因素之一，水质要求也越来越高。在生产中，高纯水主要用作纯水清洗和纯水配液，不同的工艺生产中纯水的用途及对水质的要求也不同。 

清洗是指清除工件表面上液体和固体的污染物，使工件表面达到一定的洁净程度。清洗过程是清洗介质、污染物、工件表面三者之间相互作用，是一种复杂的物理过程，清洗不仅与污染的性质、种类、型态以及粘附程度有关。与清洗介质的理化性质、清洗性能、工件的材质、表面状态有关、还与清洗的条件如温度、压力以及附加的超声振动、机械振动等因素有关。 

传统的清洗方式有浸式清洗、喷气清洗、喷流清洗、刷洗、喷淋清洗、喷雾清洗、减压清洗及高压水射流清洗等，而超声波纯水清洗是目前国际社会公认的最先进的清洗方式。清洗需用纯水，如水中含有氯离子，电容器就会漏电。在电子管生产中，电子管阴极涂甫碳酸盐，如其中混入杂质，就会影响电子的发射，进而影响电子管的放大性能及寿命，因此其配液要使用纯水，在显象管和阴极射线管生产中，其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质，是锌或其他金属的硫化物组成的荧光粉颗粒并用硅酸钾粘合而成，其配制需用纯水，如纯水中含铜在8ppb以上，就会引起发光变色；含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪光跳跃；含奇有机物胶体、微粒、细菌等，就会降低荧光层强度及其与玻壳的粘附力，并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。在黑白显象管荧光屏生产的12个工序中，玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5个工序需使用纯水，每生产一个晶体管需用纯水80kg[1]。液晶显示器的屏面需有纯水清洗和用纯水配液，如纯水中存在着金属离子、微生物、微粒等杂质，就会使液晶显示电路发生故障，影响液晶屏质量，导致废、次品。 

在晶体管、集成电路生产中，纯水主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制，硅片氧化的水汽源，部分设备的冷却水，配制电镀液等。集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属（K、Na等）会使绝缘膜耐压不良，重金属（Au、Ag、Cu等）会使PN结耐压降低，Ⅲ族元素（B、Al、Ga等）会使N型半导体特性恶化，V族元素（P、As、Sb等）会使P型半导体特性恶化[2]，水中细菌高温碳化后的磷（约占灰分的20-50%）会使P型硅片上的局部区域变化为N型硅而导致器件性能变坏[3]，水中的颗粒（包括细菌）如吸咐在硅片表面，就会引起电路短路或特性变差。 

纯水清洗是一种物理作用配以相关的清洁剂或相关的清洁方式，效果更加卓越，因此选择科学合理的清洗工艺，必须对工艺分析。其中所涉及到的纯水工艺主要有电渗析（EDI）、反渗透（RO）、纳滤（NF）、超滤（UF）、微滤（MF）。 

工业纯水机是将先进的反渗透膜过滤技术和传统的离子交换法有机的结合在一起，以达到去除水中的Ca+、Mg2+、Na2+、Co2+、Hco3+、Co-、等离子的高性能纯水设备，出水水质满足不同客户的需求。 

工业纯水机广泛应用于光学、光电、半导体、化妆品、食品、饮料、热电厂、冶金、化工、轻工、汽车制造、制药、医疗卫生等各行业对高质量用水的要求。